英伟达探索硅中介层集成光学
在旧金山举行的SEMICON West 2026大会上,英伟达研究员Nikola Nedovic介绍了Optics-on-Interposer(OOI,中介层集成光学)研究方案。该方案将光引擎从封装基板移至与计算芯片共用的硅中介层,通过更细、更密集的互连缩短高速电信号路径。英伟达称,这种设计可降低功耗并提高互连带宽密度,但尚未公布实测结果或商业化时间表。英伟达同期还展示了密集波分复用研究,利用8个波长在同一根光纤中传输数据,实现256Gb/s总带宽。
OOI将光引擎进一步移近计算芯片,使光互连开发与先进封装的联系更加紧密,以应对AI集群不断增长的通信带宽需求。但更高集成度也带来散热、测试、良率、对准、维修和维护等挑战;报道未说明新增封装成本能否由功耗降低所抵消。
近日,英伟达展示了下一代 CPO(共封装光学)光电集成方案,准备将光引擎进一步向计算芯片靠近。
上个月,在旧金山举办的 SEMICON West 2026 大会上,英伟达研究员 Nikola Nedovic 介绍了这项名为 Optics-on-Interposer(OOI,中介层集成光学)的新技术。相比现有 CPO 方案,它将负责光电转换的光引擎从封装基板移到计算芯片所在的硅中介层上,进一步缩短高速电信号的传输距离,以降低功耗、提高互连带宽密度。
英伟达同期还展示了一项密集波分复用(DWDM)研究,利用 8 个不同波长在同一根光纤中传输数据,实现 256Gb/s 的总带宽。两项研究分别着眼于缩短芯片与光引擎之间的电连接,以及提升单根光纤的传输容量。
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