應材與英特爾深化AI晶片製造合作
應用材料宣布與英特爾深化合作,結合其矽谷 EPIC 中心與英特爾奧勒岡州希爾斯伯勒研發園區,推進支援 AI 運算的電晶體、互連與先進封裝技術。合作涵蓋先進邏輯製程的材料與製程開發、互連微縮,以及用於 Intel Foveros 3D 堆疊的封裝技術;雙方表示,目標是加快從研發到美國量產的進程。
为什么重要:材料研發與晶圓代工製造的更緊密協作,可能推動 AI 系統所需的先進製程與封裝技術發展。

應用材料今(7 日)宣布與英特爾攜手合作,加速新一代電晶體、互連與先進封裝技術的晶片製造創新。此次合作將結合應材位於矽谷 EPIC 中心,與英特爾位於奧勒岡州希爾斯伯勒(Hillsboro)研發園區的領先技術能力,縮短支援 AI 運算所需先進半導體技術的上市時程。
應材與英特爾的團隊正針對 AI 工作負載所需的先進邏輯製程節點,共同開發新一代材料、製程技術及元件架構,並將在 EPIC 中心持續推進相關工作。雙方的合作涵蓋前段製程與後段製程的技術創新,包括互連微縮技術。此外,雙方也將共同開發應用於 Foveros 3D 堆疊的先進封裝技術,以實現更高的互連密度、更佳的供電能力與散熱效能,支援專為新興代理式 AI 工作負載所打造的高效能運算平台。
應材總裁暨執行長蓋瑞.迪克森(Gary Dickerson)表示,雙方持續突破材料工程的技術極限,共同推進半導體技術藍圖。透過雙方團隊在 EPIC 中心攜手合作,將進一步深化夥伴關係,加速電晶體、互連與封裝技術創新,推動 AI 運算的未來發展。
英特爾執行長陳立武(Lip-Bu Tan)指出,AI 運算需求帶動產業對效能、能源效率與封裝技術重大突破的需求。英特爾致力於推動這些創新,並與生態系夥伴緊密協作。應用材料是重要的合作夥伴,期待在 EPIC 中心進一步擴展雙方合作,加速先進技術從實驗室研發走向在美國量產的進程。
應用材料公司半導體產品事業群總裁帕布·若傑(Prabu Raja)指出,隨著每一個製程節點的晶片製造技術藍圖日益複雜,要加速半導體元件、互連與封裝技術創新,需要研發與製造領域間更緊密的合作。
英特爾執行副總裁暨技術與營運長、Intel Foundry 總經理 Naga Chandrasekaran 表示,隨著 AI 基礎設施快速擴建,加速研發以跟上發展步伐,對於提供客戶期待 Intel Foundry 所具備的技術、製造卓越性及晶圓代工服務至關重要。
(首圖來源:應材)
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